研一新生林默考入高分子材料与工程专业，开学三日便申请退学，却被院士导师陈建国拉入国家“补天”绝密计划——研发第五代光刻机核心组件，打破国外技术封锁。林默实则是重生者，前世该项目因内奸与国外势力破坏失败，他也葬身爆炸，而其本科聚酰亚胺薄膜研究正是项目关键。重生后他放下退学想法，抵过嘲讽与高薪诱惑，凭前世经验在秘密实验室提出“自组装模板”方案，成功攻克EUV反射镜薄膜技术难关。